阿斯麦垄断，被掩盖的真相
2015年后，asml再无对手。
然而我们对于asml的垄断存在着巨大的误解。
在很多中国投资者眼里，asml是一家科技“出神入化”的企业，我们中国无法生产出顶尖的光刻机是因为我们的技术无法赶上asml。
这是事实，然而却掩盖了真相。
asml诞生之初，就是一个攒局高手。无论是和林本坚的合作，还是加入euv llc，还是制造euv，没有什么是一只郁金香忽悠不了的，如果有，就用荷兰大风车。
在微电子技术的发展历程中，人们一直在研究开发新的ic制造技术来缩小线宽和增大芯片的容量。我们也普遍的把软x射线投影光刻称作极紫外投影光刻。在光刻技术领域我们的科学家们对极紫外投影光刻euv技术的研究最为深入也取得了突破性的进展，使极紫外投影光刻技术最有希望被普遍使用到以后的集成电路生产当中。它支持22nm以及更小线宽的集成电路生产使用。
euv是目前距实用化最近的一种深亚微米的光刻技术。波长为157nm的准分子激光光刻技术也将近期投入应用。如果采用波长为13nm的euv，则可得到0．1μm的细条。
在1985年左右已经有前辈们就euv技术进行了理论上的探讨，并做了许多相关的实验。近十年之后微电子行业的发展受到重重阻碍才使人们有了忧患意识。并且从微电子技术的发展过程能判断出，若不早日推出极紫外光刻技术来对当前的芯片制造方法做出全面的改进，将使整个芯片工业处在岌岌可危的地步。 事实上，euv的核心技术集中在三大领域：顶级的光源（激光系统）、高精度的镜头（物镜系统）、精密仪器制造技术（工作台）。
其中镜头被德国的蔡司垄断、顶级的光源来自于2012年收购的美国企业cymer、精密仪器制造技术也来源于德国。asml只掌握了不到10％的核心技术。
asml是集大成者，8000个核心零部件都需要由asml集成。
asml是全球化的巨大受益者， asml背后是美国、日本、欧洲、韩国技术支撑，最终才能生产出极度复杂的euv。
与人们的普遍认知不同，asml把主要精力放在了与客户沟通、了解客户需求上。同时和客户一起进行可行性研究，同时做一些基础理论研究和技术研发。
到这里，能够看到半导体产业的精髓：全球化的分工和人类的通力合作。每个核心国家都有“一票否决权”，任何一环的断裂，都意味着整个链条的崩塌。
因为制衡，所以稳定。
asml的强大，让美国人坐卧不安。
为了遏制asml的一家独大，一些半导体公司，包括intel、ibm、三星，都有意扶持xtal，一家在2014年成立于硅谷的光刻机厂商。
2018年，asml以侵占知识产权为由，起诉xtal，最终胜诉并在2019年5月获得了8．45亿美金的赔偿。虽然xtal公司此前已经破产，但最终asml还是轻松获得了xtal的大部分资产。
这一次，干掉竞争对手asml只花了一些律师费。

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